今天，企服快车律师 给大家分享：一文看懂 专利保护与商业秘密保护的区别 。

一、产生方式的差异：

专利的产生必须通过正式的申请程序，由国家知识产权局进行审查并授权后，才能享有法律保护。

商业秘密的产生则不需要经过任何官方的申请或授权程序。

只要权利人对其尚未公开的技术采取了合理的保密措施，该技术便自动成为商业秘密。

二、财产权性质的差异：

专利是一种完全的财产权，具有独占性。

一旦某项技术被授予专利权，其权利人便对该技术享有专有权，其他人在未经许可的情况下不得使用。

商业秘密则不具备这种独占性。

虽然商业秘密也是一种财产权，但它不是一种完全的财产权。

只要是通过合法手段获取的商业秘密，同一项技术可以有多个权利人同时享有。

三、保护期限的不同：

专利的保护是有时间限制的。

根据《专利法》的规定，发明专利权的期限为20年，实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年，15年。

一旦专利保护期限届满，该技术便不再受到专利法的保护。

商业秘密的保护则没有时间限制。

只要商业秘密不被泄露或由权利人自行公开，它就可以一直受保护。

四、保护方式的差异：

专利的保护方式是通过技术公开和限制使用来实现的。

在申请专利时，申请人需要将其技术内容公之于众，一旦专利被授予，权利人便有权禁止他人未经许可使用其技术。

商业秘密的保护方式则是通过采取保密措施来实现的。

权利人需要对其技术采取严格的保密措施，如签订保密协议、限制知悉范围等，以确保技术不被泄露。

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