通过反向工程的立法史可以得知，之所以在法律中承认反向工程的合法性，将其作为侵权的一个抗辩理由，一是因为在半导体行业中长期以来存在一个“第二供货来源”传统，二是因为反向工程可以促进整个集成电路产业的发展进步，通过允许竞争者对现有的集成电路布图设计进行分析、研究，从而能够更容易、更迅速地生产出性能相近、技术更加进步的集成电路。

但是反向工程在带来好处的同时，也会带来一定的弊端，那就是在实践中容易引发诉讼争议。

因为反向工程是在分析、评价第一布图设计的基础上创作出第二布图设计，所以第二布图设计必然会与第一布图设计存在相同、相似之处，因此非常容易与复制侵权行为产生混淆，进而引发争议。

未经权利人同意而复制其布图设计即构成侵权。

这里的复制主要有两种情况，一是完全复制，二是部分复制。

完全复制就是将受保护的布图设计作为一个整体全部复制在自己的集成电路产品中，没做任何改动。

这种情况与反向工程很容易区分，因为通过反向工程得来的布图设计不可能与第一布图设计完全相同。

而部分复制是将受保护的布图设计做某种程度的修改，从而使人不易判断出是否是复制了他人的布图设计，这种侵权方式比较隐密，也非常容易与反向工程产生混淆。

那么应该如何正确区分反向工程行为与复制侵权行为?这个问题对于集成电路反向工程至关重要，因为如果进行不能有效的区分，那么这种不确定性一来会使得某些侵权者借助反向工程抗辩理由而逃脱法律制裁，二来会使得竞争者因为害怕引发侵权责任而不敢通过反向工程来研发更先进的集成电路，同时这种不确定性也会导致集成电路的侵权诉讼很少提起，因为当判决结果不确定时，公司并不愿意投入大量的诉讼成本。

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